簡(jiǎn)要描述:Nanosystem NV-2400非接觸式3D輪廓儀通過非接觸式的方法對(duì)0.1nm-270nm的3維表面形貌進(jìn)行高進(jìn)度和高速測(cè)量。利用物鏡轉(zhuǎn)臺(tái)可方便的進(jìn)行放大倍數(shù)的轉(zhuǎn)換。使用拼接功能可分析寬廣的表面。
產(chǎn)品分類
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品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 100萬-200萬 |
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產(chǎn)品種類 | 非接觸式輪廓儀/粗糙度儀 | 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,航天,汽車,電氣 |
Nanosystem NV-2400非接觸式3D輪廓儀?是一款適用于各種表面的快速非接觸式三維輪廓儀。XY自動(dòng)平臺(tái),而Z軸是手動(dòng)的。納米系統(tǒng)主要是為R&D、高校和過程管理用戶而設(shè)計(jì)。Nanosystem用自己Patented算法和白光干涉技術(shù)創(chuàng)造硬件和軟件。它可以通過拼接函數(shù)測(cè)量大視場(chǎng)(500mm2)。Patented WSI/PSI技術(shù)測(cè)量各種表面材料和參數(shù),包括表面紋理、形狀、臺(tái)階高度和更高的二維和三維剖面(0.1 nm-垂直和0.2 um-橫向分辨率)。Patented WSI/PSI技術(shù)測(cè)量各種表面材料和參數(shù),包括表面紋理的2D和3D輪廓,形狀,臺(tái)階高度及以上(0.1nm-垂直和0.2微米-橫向分辨率)。
白光掃描干涉技術(shù)(WSI)是一種測(cè)量高分辨率(0.1nm)、高速測(cè)量表面積、高度和體積的技術(shù)。在不破壞任何破壞的情況下,納米系統(tǒng)的WSI技術(shù)(白光掃描干涉法)能在幾秒鐘內(nèi)從0.1nm到10000米范圍內(nèi)測(cè)量樣品,并提供真實(shí)的樣品三維形狀。此外,重復(fù)性小于0.1%(1σ),無論放大,z軸分辨率為0.1nm?;诩{米系統(tǒng)技術(shù)的精度(高精度、重復(fù)性和重復(fù)性),該產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、印刷電路板、顯示、工程部件、化工材料、光學(xué)部件、生物、R&D等領(lǐng)域。
Nanosystem NV-2400非接觸式3D輪廓儀提供高分辨率(0.1nm)、10萬倍放大率(10 Mm)和高清晰度圖像,在0.1nm至10000 m范圍內(nèi),在2秒內(nèi)測(cè)量樣品,提供真實(shí)的2D/3D樣品形狀,無需準(zhǔn)備(只需將樣品直接放在舞臺(tái)上),測(cè)量任意尺寸和幾乎任何材料的樣品(反射率為1%)。
NV-2400的優(yōu)點(diǎn)
· 優(yōu)良的測(cè)量精度
· 抗振動(dòng)設(shè)計(jì)
· 快速測(cè)量速度
· 友好的測(cè)量界面
· Stitching功能
· 2D和3D多功能性能
主要功能
· 3D 形貌測(cè)量
· 粗糙度 (ISO 25178) 和平整度 (選項(xiàng))
· 高度,深度,寬度(從亞納米到10mm)·
· 面積信息(體積,面積)
· 2D和3D 測(cè)量
產(chǎn)品規(guī)格
· 干涉物鏡:5個(gè)物鏡可選
· 掃描范圍:0-180um(270um,5mm可選)
· 垂直分辨率:WSI:﹤0.5nm ,PSI :﹤0.1nm
· 傾斜臺(tái):±6°
· Z軸行程:100mm(手動(dòng))
· 工作臺(tái)面:100X100mm(程控)
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